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通过专用软件完成微纳结构设计，系统自动将图形数据转换为控制指令，简化打印流程。
紫外激光束经声光调制器和高精度振镜系统协同调制，通过高数值孔径(NA)物镜精准聚焦至光刻胶表面，确保曝光质量。
激光束沿预设路径执行高速、高精度的逐点扫描曝光，实现亚微米级分辨率的稳定控制。
设备体积小巧，可灵活置入手套箱内，在恒定氛围环境中稳定运行，满足钙矿等氛围敏感材料的研发与测试需求。
打印参数 参数项 核心指标 小特征尺寸XY 250 nm 小等间距线栅 560 nm 打印速率 18 mm²/h 曝光面积 ≥ 0.25 mm × 0.25 mm
(单次加工范围，支持拼接实现更大图形)相邻曝光区域拼接误差 ≤ 150 nm 系统参数 参数项 核心指标 样品台XY双向重复定位精度 ≤ 120 nm 小移动步距 ≤ 50 nm 打印范围(XY) 48 × 48 mm² 基底类型 载玻片/圆晶片 基片厚度 0 – 4.5 mm 样品尺寸 5 × 5 mm² to 48 × 48 mm²
(可按需求定制)隔振(可选) 平台尺寸 ≥ 400 × 30 mm；
带宽1~200 Hz
效率 >90% @ 5 Hz，90%~99% @10 Hz光源 405 nm 长 × 宽 × 高 (仅限光刻单元) 463 × 160 × 535 mm³ 重量 (仅限光刻单元) 12 kg(背包级) 供电 230 VAC ±5 %，50/60 Hz, 16 A
微纳材料与器件原型制备
适用于量子点、功能薄膜、微电 极及微纳光电器件样品的高分辨 图形化加工。
微光学与衍射功能结构
适用于衍射光学元件（DOE）、周期/非 周期微结构、功能表面纹理及微光学原 型的高精度制备。
科研样品快速制备与工艺验证
面向高校、科研院所及企业研发部门， 支持微纳结构样品的快速制备、参数 优化与实验验证。
固话：010-69798893
鲁工：13910937780（微信同号）
王工：17600738803（微信同号）
传真：010-69798893 邮箱：sales@oelectron.com
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