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通过将 DMD 同时用作动态衍射光栅与可编程掩模，结合空间和时间聚焦技术，生成具有可控深度分辨率的光片，从而实现大面积、快速且高精度的光聚合加工。系统中的飞秒光片与高精度位移平台协同运动，可在光敏材料中高效地构建复杂的三维微纳结构，具备优异的横向和轴向分辨能力。相比传统依赖逐点扫描的双光子光刻方法，FP NanoPrinter 采用面曝光策略，一次成像即可构建包含大量体素的截面图案，显著提升制造效率。这一并行制造机制使得其在构建具有内嵌悬垂结构、分层通道等复杂几何形状时表现出强大的能力。已著作技术显著简化了传统飞秒加工中冗长的激光曝光流程，在保持高分辨加工质量的同时，有效降低了运行成本和能耗。因此，它为大规模微纳制造提供了切实可行的路径，尤其适用于快速原型制造、精密器件开发及柔性生产线中的定制化微结构构建等高价值场景。
技术参数 | 描述 |
应用 | 双光子聚合打印 |
打印技术 | 投影光刻 |
小特征尺寸 (XY / Z) | 142 nm* / 175 nm* |
分辨率 (衍射极限, XY / Z) | 285 nm* / 500 nm* |
层间距 | ≥0.05µm* |
打印速率 | 100 mm3/hr* |
可并行写入焦点 | ≥100 |
多焦点控制 | 任意单焦点编辑控制 |
小表面粗糙度 | ≤ 20 nm |
激光安全 | Class 4 |
软件 | 包含 |
AstraWrite | 专属 GUI |
数据输入 | 各种图像文件(.bmp, .stl) |
重量(不带光学桌) | 500 kg |
工作温度 | 23 ± 1 ℃ |
相对湿度 | < 50% (< 35% 推荐) |
房间照明 | ≥ 590 nm操作时照明 |
颗粒物 | Class 10000 |
电源 | 220V, > 35 A |
振动等级 | 需要隔振和阻尼； 房间内无振动源 |
压缩空气供应 | 0.55 ±0.03MPa，流量40 SLPM |
环境空气要求 | 20 厘米范围内无明显气流 |
海拔 | 高2500 m |
*由系统设置、打印参数、物镜、现场温度和条件决定。
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