椭偏仪
高速椭偏仪ME-210

日本Photonic Lattice, Inc.基于自研的光子晶体技术开发的一款高速膜厚测量仪ME-210,与传统点测的椭偏仪不同,ME-210通过点扫描的方式可以快速的得到整面的膜厚信息,每分钟可取得1000个点的膜厚数据,6寸晶圆3分钟可取得整面的膜厚mapping,重复测量精度0.1nm,透明基板也可测量。

产品说明

常规椭偏仪是单点测试,因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作,而且小的测量分辨率就是激光光斑大小,

无法取得微小区域的膜厚分布数据。

ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片(光子晶体)来克服上述两大问题的设备。


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产品特点

能以快速取得大12inch基板上的膜厚分布

能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布(设备高分辨率为5.5um*5.5um)

设备软件具有模拟功能,因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺

透明基板的膜厚测量

规格参数
重复精度       薄膜厚度:0.1nm

  折射率:0.001 *Si 上的 SiO2 膜(厚度约 100nm)的一点重复测量 100 次时的标准偏差值

测量速度  900 点/分钟以上(广域模式 100mm 方形区域测量)
  5000 点/分钟或以上(高清模式 1mm 方形区域测量)
光源  半导体激光器(波长 636nm)
测量点  广域模式:0.5mm 
  高清模式:5.5μm 
入射角度  70 度



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