揭秘低成本无掩模光刻机如何实现微米级快速曝光
UTA-1A是一款基于DLP投影技术的低成本无掩模光刻机，核心依托数字微镜器件（DMD）与MEMS光调制技术，无需传统物理掩膜板，通过数百万可独立控制的微镜阵列高速调制光路，将设计图形直接投影至光刻胶表面完成曝光。系统集成DLP投影、相机监测、显微镜光学模块及专用操作软件，可实现1μm小线宽、数秒级单次曝光，支持微米至毫米级区域灵活图形化光刻，完美适配科研实验、高校教学等入门级微纳加工需求。
本文将介绍一种基于DLP投影技术的无掩模光刻机UTA-1A的组成与工作原理，带您了解其如何实现快速、灵活的图形化光刻。
一、核心组成与工作原理
UTA-1A系统主要由四个部分构成：DLP投影系统、相机模块、显微镜光学系统以及专用操作软件。其核心为DLP投影系统，该技术基于数字微镜器件（DMD），是一种通过微镜阵列对光进行高速调制的MEMS技术。
DMD芯片上分布着数百万个可独立控制的微镜，每个微镜对应图像中的一个像素。通过电信号控制微镜的偏转状态，可实现光路的开关调制，进而将设计好的图形投影至光刻胶涂层表面，完成曝光。
二、系统特点与光刻能力
结合显微镜光学系统，用户可在操作软件中自由设计光刻图形，实现在不同倍率下对微米至毫米级别区域进行曝光。该系统可在数秒内完成一次曝光，小光刻线宽可达 1μm。
设备结构示意图如下：
三、灵活的设备获取方式
了解其基本原理后，您可能会觉得光刻并没有想象中那么遥不可及。尽管UTA-1A与工业级光刻设备不在同一量级，但其作为一款入门级无掩模光刻系统，已能满足多数科研或教学场景的需求。
若您希望自行组装，确实需要一定的光学与机械调试经验；我们也提供成熟整机方案，若您已有适配的显微镜，该系统的成本将更具吸引力，欢迎进一步咨询具体配置与报价。
