无掩膜光刻机
无掩膜紫外激光直写系统

系统可用于微纳结构的高精度图形加工,实现亚微米级分辨率与高精度定位能力。兼具大面积图形加工能力与亚微米级精度保证。应用于微型显示芯片等光电器件的研发,以及钙钛矿等氛围敏感材料的测试场景,其超紧凑体积可实现手套箱恒定氛围内使用。


主要特点

    通过专用软件完成微纳结构设计,系统自动将图形数据转换为控制指令,简化打印流程。

    紫外激光束经声光调制器和高精度振镜系统协同调制,通过高数值孔径(NA)物镜精准聚焦至光刻胶表面,曝光质量。

    激光束沿预设路径执行高速、高精度的逐点扫描曝光,实现亚微米级分辨率的稳定控制。

    设备体积小巧,可灵活置入手套箱内,在恒定氛围环境中稳定运行,满足钙矿等氛围敏感材料的研发与测试需求。

规格参数

75fb9195-dcc3-4ed4-b546-56755fce9c35.png

应用场景

微纳材料与器件原型制备

适用于量子点、功能薄膜、微电 极及微纳光电器件样品的高分辨 图形化加工。

image.png

微光学与衍射功能结构

适用于衍射光学元件(DOE)、周期/非 周期微结构、功能表面纹理及微光学原 型的高精度制备。

image.png

科研样品快速制备与工艺验证

 面向高校、科研院所及企业研发部门, 支持微纳结构样品的快速制备、参数 优化与实验验证。

image.png

北京欧屹科技有限公司

固话:010-69798893

鲁工:13910937780(微信同号)

王工:17600738803(微信同号) 

传真:010-69798893 邮箱:sales@oelectron.com
地址:北京市昌平区回龙观龙冠大厦614室

官方公众号

北京欧屹科技有限公司 版权所有 © 2026 All Rights Reserved. 京ICP备15048507号-1     京公网安备11011402056080号

  • 首页
  • 电话
  • 留言
  • 顶部
  • 您可以填写下面的资料留言给我们,我们会尽快回复您。
    公司名称*
    咨询产品*
    姓名*
    电话*
    *为必填项