R&D maskless lithography machine
Release time：2021-09-28 17:24:00
Publisher：OE
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无掩膜光刻系统概要说明
１．显微镜安装DLP 投影机和专用光学系统
２．目镜另一侧安装USB 摄影机
３．使用PC 开启曝光软件，在画像显示会出现实时映像。
４．红色区域则是被曝光的范围。
5 显示红色曝光区域，设计曝光形状。
白色框为设计好的曝光形状，画好之后使用软件处理功能转换成光罩。
样品画像会被转化成黑白，可以看到白色曝光形状。
６．将做好的形状用不会有化学反应的颜色（红色），用投影机投射，确认实际曝光位置。
因为实时画面，可以边看调整位置。
７．做好对位置后将红色投影关掉，设定曝光时间进行曝光。
※上述照片不是同一个曝光图案。
偏向高校科研和教学的桌面型设备，高性价比，操作简单易学。
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