掩膜版基底石英玻璃应力双折射测量应用
发布时间：2023-01-13 15:46:33
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掩膜版业内又称光掩模版、掩膜版英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，
在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，
在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进
行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，后应用于光蚀刻。
为衬底的石英玻璃的优良程度直接关乎着整个光刻工艺的优劣，所以对石英玻璃衬底的缺陷检测成为生产掩膜版厂商以及光刻厂的重点。
目前我国半导体水平逐渐进步，其中应力双折射的指标也是目前各大厂商非常看重的。
应力双折射测量系统 PA 系列
PA 系列是Photonic Lattice, Inc.开发用于石英玻璃、晶体、晶圆等应力双折检测的设备，高达500万像素，可以分辨更多细节缺陷。
•快速、准确的面测量
•颜色编码直观显示应力双折射分布
•量化测量，多种分析功能
•适用于低应力双折射的产品
•多种输出格式，便于数据采集
•500万分辨率，可检测细节缺陷
