第24届CIOE中国光博会邀请

发布时间:2022-07-07 17:34:00
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北京欧屹科技有限公司将会展出:双折射测量仪,应力测量仪,白光+激光共聚焦显微镜,激光干涉内径测量仪,奈米级三维形貌仪、无掩膜光刻机等精密光学仪器。

 

展品介绍:


1, 应力测量仪


来自日本PHL公司的PA和WPA系列双折射应力测量仪,业内市场占有率超过70%。其中PA系列,广泛应用于玻璃、各种镜头、人工晶体、

SIC、蓝宝石,晶圆等透明或半透明内部缺陷,双折射变化,内部应力分布的测量。WPA系列,高达0-3500nm相位差范围,几乎适用于

所有的透明半透明样品的双折射应力测量,特别是 高分子材料,注塑成型制品,薄膜(位相膜)应用广泛,测量数据准确,软件功能强,

使用方便快捷。



2, 白光+激光共聚焦显微镜


日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦显微镜是白光&激光共聚焦融合,实现一般激光(白光)共聚焦显微镜无法实现的高性能与

多功能,以双共聚焦光学系为基础,搭载微分干涉观察,垂直白光干涉测定,相差干涉测定,反射分光膜厚测量等功能,通常多台设

备才能完成的测量,仅需我们的一台设备就可实现。仪器特点:高放大倍数,高分辨率,高对比度,纳米级异物或损伤的可视化,纳

米级透明膜的厚度测量,埃米级型状测试,数毫米宽视野范围纳米型状测量。



3, 激光干涉内径测量仪


日本Orbray公司开发了NMH-01通过微电机和专利的光学成像探头,利用光学干涉实现内型面的测量,内径测量最小可达1.1mm,

同时测量内径、真圆度、内型面粗糙度。





4, 无掩膜光刻机


无掩膜光刻机UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统,其价格低于传统系统(用于掩膜光刻的图案投影曝光系统)

  可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。


 期待大家莅临展会交流!

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