第24届CIOE中国光博会邀请
发布时间：2022-07-07 17:34:00
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北京欧屹科技有限公司将会展出：双折射测量仪，应力测量仪，白光+激光共聚焦显微镜，激光干涉内径测量仪，奈米级三维形貌仪、无掩膜光刻机等精密光学仪器。
展品介绍：
1， 应力测量仪
来自日本PHL公司的PA和WPA系列双折射应力测量仪，业内市场占有率超过70%。其中PA系列，广泛应用于玻璃、各种镜头、人工晶体、
SIC、蓝宝石，晶圆等透明或半透明内部缺陷，双折射变化，内部应力分布的测量。WPA系列，高达0-3500nm相位差范围，几乎适用于
所有的透明半透明样品的双折射应力测量，特别是 高分子材料，注塑成型制品，薄膜（位相膜）应用广泛，测量数据准确，软件功能强，
使用方便快捷。
2， 白光+激光共聚焦显微镜
日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦显微镜是白光＆激光共聚焦融合，实现一般激光（白光）共聚焦显微镜无法实现的高性能与
多功能，以双共聚焦光学系为基础，搭载微分干涉观察，垂直白光干涉测定，相差干涉测定，反射分光膜厚测量等功能，通常多台设
备才能完成的测量，仅需我们的一台设备就可实现。仪器特点：高放大倍数，高分辨率，高对比度，纳米级异物或损伤的可视化，纳
米级透明膜的厚度测量，埃米级型状测试，数毫米宽视野范围纳米型状测量。
3， 激光干涉内径测量仪
日本Orbray公司开发了NMH-01通过微电机和的光学成像探头，利用光学干涉实现内型面的测量，内径测量小可达1.1mm，
同时测量内径、真圆度、内型面粗糙度。
4， 无掩膜光刻机
无掩膜光刻机UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其价格低于传统系统（用于掩膜光刻的图案投影曝光系统）
可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。
期待大家莅临展会交流！
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