R&D maskless lithography machine
Release time:2021-09-28 17:24:00
Publisher:OE
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无掩膜光刻系统概要说明
1.显微镜安装DLP 投影机和专用光学系统
2.目镜另一侧安装USB 摄影机
3.使用PC 开启曝光软件,在画像显示会出现实时映像。
4.红色区域则是被曝光的范围。
5 显示红色曝光区域,设计曝光形状。
白色框为设计好的曝光形状,画好之后使用软件处理功能转换成光罩。
样品画像会被转化成黑白,可以看到白色曝光形状。
6.将做好的形状用不会有化学反应的颜色(红色),用投影机投射,确认实际曝光位置。
因为实时画面,可以边看调整位置。
7.做好对位置后将红色投影关掉,设定曝光时间进行曝光。
※上述照片不是同一个曝光图案。
偏向高校科研和教学的桌面型设备,高性价比,操作简单易学。
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