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研发型无掩模光刻机
来源: | 作者:欧屹科技 | 发布时间: 275天前 | 503 次浏览 | 分享到:

无掩膜光刻系统概要说明

1.显微镜安装DLP 投影机和专用光学系统

2.目镜另一侧安装USB 摄影机

3.使用PC 开启曝光软件,在画像显示会出现实时映像。

4.红色区域则是被曝光的范围。

5 显示红色曝光区域,设计曝光形状。

白色框为设计好的曝光形状,画好之后使用软件处理功能转换成光罩。

样品画像会被转化成黑白,可以看到白色曝光形状。

6.将做好的形状用不会有化学反应的颜色(红色),用投影机投射,确认实际曝光位置。

因为实时画面,可以边看调整位置。

7.做好对位置后将红色投影关掉,设定曝光时间进行曝光。

※上述照片不是同一个曝光图案。


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